我国科研团队完成一种新型光刻胶技术初步验证
银柿财经
小柿
2024-04-02 17:06:55
光刻胶直接关系到集成电路的性能、成品率和可靠性。
据科技日报报道,华中科技大学与湖北九峰山实验室联合研究团队成功研发“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术,相关成果已发表在国际期刊《化学工程杂志》上,并在生产线上完成初步工艺验证。
光刻胶是半导体制造的关键材料,直接关系到集成电路的性能、成品率和可靠性。该新型光刻胶体系表现出优于多数商用光刻胶的性能,其光刻图像形貌优良,线边缘粗糙度低,且符合半导体量产制造对效率和吞吐量的要求。
此次研发的技术为解决光刻制造共性难题提供了新方向,并为极紫外线光刻机光刻胶的开发奠定了技术基础。有望进一步推动我国半导体产业的发展。